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  1. 福井工業大学研究紀要

RFスパッタリング法によるBi-Sb薄膜熱電素子の作製条件とその熱電特性

https://doi.org/10.57375/00000861
https://doi.org/10.57375/00000861
3a84112e-4d97-471c-8b54-4629c85df59c
名前 / ファイル ライセンス アクション
KJ00000201793.pdf KJ00000201793.pdf (453.7 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2009-04-10
タイトル
タイトル RFスパッタリング法によるBi-Sb薄膜熱電素子の作製条件とその熱電特性
タイトル
タイトル Production Conditions of Bi-Sb Film Thermoelement Using RF Sputtering Method and Thermoelectric Properties
言語 en
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
ID登録
ID登録 10.57375/00000861
ID登録タイプ JaLC
著者 村瀬, 正義

× 村瀬, 正義

WEKO 11467

村瀬, 正義

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内山, 直幸

× 内山, 直幸

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内山, 直幸

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MURASE, Masayoshi

× MURASE, Masayoshi

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en MURASE, Masayoshi

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UCHIYAMA, Naoyuki

× UCHIYAMA, Naoyuki

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en UCHIYAMA, Naoyuki

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書誌情報 福井工業大学研究紀要. 第一部

号 27, p. 1-6, 発行日 1997-03-20
出版者
出版者 福井工業大学
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 2868571
書誌レコードID
識別子タイプ NCID
関連識別子 TF00009320
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.1 2023-06-20 14:23:35.782747
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