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  1. 福井工業大学研究紀要

ハロゲン化合物の低エネルギー電子付着過程における媒体温度効果

https://doi.org/10.57375/00000405
https://doi.org/10.57375/00000405
916173ea-a385-4446-8054-7460fcf5cb92
名前 / ファイル ライセンス アクション
KJ00004179118.pdf KJ00004179118.pdf (577.3 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2009-04-04
タイトル
タイトル ハロゲン化合物の低エネルギー電子付着過程における媒体温度効果
タイトル
タイトル Effect of ambient temperature on low-energy electron attachiment to halogenated compound
言語 en
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
ID登録
ID登録 10.57375/00000405
ID登録タイプ JaLC
著者 砂川, 武義

× 砂川, 武義

WEKO 9865

砂川, 武義

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Sunagawa, Takeyoshi

× Sunagawa, Takeyoshi

WEKO 9866

en Sunagawa, Takeyoshi

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Dependence of the rate constants for electron attachiment to CHCI, on mean electron energy from thermal to about 2 eV have been investigated at ambient temperatures between 223 and 600 K using the pulse-radiolysis microwave cavity method combined with microwave heating. The rate constant at thermal energy incrases prominently with temperature with an ativation energy of 0.13 ±0.01eV which is obtained by Arrhenius plot of the present rate constants. The atachiment cross sections obtained by unfolding the rate constants show two peaks at 0 and 0.8 eV at 223 K, but a peak observed at 0.8 eV at 223 K cannnot be seen at 600 K. The importance of vibrationally excited states in the deformation mode of CHCI_3 has been proposed to interpret the cross sections observed at 600 K.
書誌情報 福井工業大学研究紀要. 第一部

号 35, p. 223-230, 発行日 2005-03-18
出版者
出版者 福井工業大学
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 2868571
書誌レコードID
識別子タイプ NCID
関連識別子 TF00008864
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.1 2023-06-20 14:33:03.413333
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