@article{oai:fut.repo.nii.ac.jp:00000355,
 author = {砂川, 武義 and Sunagawa, Takeyoshi},
 issue = {36},
 journal = {福井工業大学研究紀要. 第一部},
 month = {Mar},
 note = {パルスラジオリシス・マイクロ波空洞法を用いてペニングイオン化過程で生成する電子濃度の時間分解測定を行った。希ガス(He,Ne,Ar)にパルスX線を照射したときの励起とイオン化の割合や励起希ガス原子と多原子分子衝突における脱励起の際のペニングイオン化と分子解離との相対的寄与(イオン化効率)について、純系とそれらの最低励起エネルギーよりもイオン化ポテンシャルの低い他の希ガス(Ar,Kr,Xe)もしくは多原子分子混合系とでの生成電子濃度を比較する手法を適用して決定した。その結果を希ガスのW値、光イオン化量子収率と関連させて議論した。 / The yield of excited states relative to ions produced in X-ray irradiated He and Ne have been determined using a pulse-radiolysis microwave-cavity (PRMC) technique by comparing the electron densities for pure He or Ne with those for admixtures with Ar, Kr, and Xe. The W values of He and Ne have been discussed. The electrons produced by Penning ionization of diatomic molecules and hydrocarbons by excited Ar, Ne, and He atoms have been observed by PRMC technique. The ionization efficiency has been determined from analysis of the relative magnitudes of signal amplitude. The comparison of the ionization efficiency from the Jesse effect and the photoionization quantum yield is shown.},
 pages = {265--270},
 title = {励起希ガス原子-分子衝突におけるイオン化と解離},
 year = {2006}
}